디스플레이 제조용 어플리케이션

  • 케미컬 여과

    Pall은 GEN 10 이상의 요건뿐 아니라 보다 작은 기판 크기까지 충족하는 다양한 필터 요소 구성을 제공합니다.  Pall은 특정 기판 크기에 맞게 입자 제거 요구를 충족하는 다양한 멤브레인 자재(폴리술폰, 폴리에테르 술폰, 폴리프로필렌, ECTFE, PTFE, 논-디웨팅 PTFE)를 생산합니다. 자세히 알아보기...
  • Lithography Filtration

    Pall은 코팅 및 현상 공정에서 사용되는 레지스트 및 솔벤트를 여과하는 용도로 POU(Point-of-Use) 캡슐과 필터 엘리먼트를 다양한 미디어 및 마이크로 사이즈로 제작했습니다.  해당 캡슐 및 엘리먼트는 교체하기 쉽게 설계되어 있어 기계의 다운타임이 줄어들고 COO(소유 비용)가 낮아집니다. 자세히 알아보기
  • 액정 여과

    Pall 필터는 초기 필터 청정도가 우수하여 헹굼 시간이 줄어들고 다운 타임이 최소화되며 제품 수율이 향상됩니다. 자세히 알아보기
  • 가스 여과 및 정제

    벌크 및 POU(Point-of-Use) 가스 스트림 양쪽 모두에서 미세 입자를 제거하는 것은 액정 디스플레이를 제조하는데 매우 중요합니다. 가스에서 멤브레인, 금속 또는 세라믹 필터의 효율성은 액체의 경우와는 상당히 다릅니다. Pall 가스 필터는 일반적으로 3nm 등급이며, 이는 CNC(응축핵 계수기)를 사용하여 확실하게 측정할 수 있는 가장 작은 입자의 수치입니다. 자세히 알아보기
  • 초순수 여과

    Pall은 전처리 역삼투, 수지 트랩, 루프 및 POU(Point-of-Use) 위치에 사용할 수 있는 필터를 제공합니다.  미량 금속을 제거하여 ppt 범위를 떨어뜨리려면 IonKleen 정제 카트리지 시리즈를 사용하면 됩니다. 자세히 알아보기 
 

디스플레이 개요디스플레이 - 어플리케이션
디스플레이 - 화학 물질 여과
Display - Lithography Filtration
디스플레이 - 액정 여과
디스플레이 - 가스 여과 및 정제
디스플레이 - 초순수 여과 

Pall의 친환경 미래 실현 방법 확인