마이크로일렉트로닉스

반도체 제조용 CMP 여과

Pall은 공급업체 및 최종 사용자와 협력하여 CMP(Chemical Mechanical Polishing) 여과 솔루션을 제공합니다. 

Pall은 다양한 슬러리 및 어플리케이션에 대응하는 보다 효율적이고 경제적인 제품을 개발하기 위해 지속적으로 노력하고 있습니다.

공정에 맞는 Pall 제품이 무엇인지 확인하려면 아래 공정 도표를 참조하십시오. 이 도표에는 공정 중 필터가 어디에 위치하는지 설명되어 있습니다. 그런 다음 각 슬러리에 따른 표와 대조하십시오.

 

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반도체용 화학적 기계적 폴리싱 여과 어플리케이션 문서

바람직한 필터 위치

 

ILD(Inter Layer Dialectric)용 여과 솔루션

ILD 슬러리는 일반적으로 다고형물(> 10%) 증기 처리 또는 콜로이드 실리카로 구성됩니다. 또한 오늘날 보다 개선된 절연체 어플리케이션 일부에서는 고형물 비율이 낮은 상태의 세리아 연마제가 함께 사용되고 있습니다.

 

 
슬러리 타입 1. 저장 탱크 2. 구형 루프 3. POU(Point of Use)
증기 처리 실리카  CMPure CMPD 1.5  CMPure CMPD 10  Starkleen™ A015(캡슐)
CMPure CMPD 1.5(카트리지)
콜로이드 실리카  Profile® II Y005  CMPure CMPD 5 Starkleen Y005(캡슐)
Profile II Y005(캡슐) 
 세리아   Profile II Y002  Profile II Y030  Profile II Y002(캡슐 또는 카트리지)
 

 

구리용 벌크 여과 솔루션

1단계(또는 벌크) 구리 슬러리는 일반적으로 저고형물(< 5%) 증기 처리 산화알루미늄 또는 콜로이드 실리카로 구성되어 있습니다. 이 슬러리에는 여과 성능에 영향을 미칠 수 있는 화학 반응이 포함되는 경우도 있습니다. 아래 권고 사항은 일반 가이드라인입니다. 특정 슬러리에 가장 적합한 권장 필터를 얻으려면 Pall 담당자에게 문의해 주시길 바랍니다.

 
슬러리 타입 1. 저장 탱크 2. 구형 루프 3. POU(Point of Use)
증기 처리 산화알루미늄  Profile II Y005  CMPure CMPD 5 Starkleen Y003(캡슐)
Profile II Y003(카트리지)
 콜로이드 실리카  Profile II Y005  CMPure CMPD 5 Starkleen Y003(캡슐)
Profile II Y003(카트리지) 
 

 

구리 배리어 여과 솔루션

구리 배리어 슬러리는 일반적으로 상급 다고형물(일반적으로 5% - 10%) 증기 처리 또는 콜로이드 실리카로 구성됩니다. 이 슬러리에는 여과 성능에 영향을 미칠 수 있는 화학 반응이 포함되는 경우도 있습니다. 아래 권고 사항은 일반 가이드라인입니다. 특정 슬러리에 가장 적합한 권장 필터를 얻으려면 Pall 담당자에게 문의해 주시길 바랍니다.

 
슬러리 타입 1. 저장 탱크 2. 구형 루프 3. POU(Point of Use)
증기 처리 실리카  CMPure CMPure 1.5 CMPure CMPD 10 Starkleen A010(캡슐)
CMPure CMPD 1.5(카트리지)
 콜로이드 실리카  Profile II Y010  CMPure CMPD 5 Starkleen Y003(캡슐)
Profile II Y003(카트리지)
 

 

STI(Shallow Trench Isolation)용 여과 솔루션

STI 슬러리는 일반적으로 세리아 절연체(5% - 10%) 고형물로 구성되어 있습니다. 다고형물(> 10%) 증기 처리 실리카 슬러리 역시 이 어플리케이션용으로 사용되어 왔습니다.  
 
슬러리 타입 1. 저장 탱크 2. 구형 루프 3. POU(Point of Use)
세리아 Profile II Y002 Profile II Y030 Profile II Y002(캡슐 또는 카트리지)
 증기 처리 실리카  CMPure CMPD 1.5  CMPure CMPD 10 Starkleen A010(캡슐)
CMPure CMPD 1.5(카트리지)
 

 

텅스텐용 여과 솔루션

저고형물(< 5%) 증기 처리 및 콜로이드 실리카는 일반적으로 텅스텐 어플리케이션에서 사용됩니다. 기존 어플리케이션 중 일부에서는 콜로이드 산화알루미늄이 흔히 선호되는 연마제입니다.

 
슬러리 타입 1. 저장 탱크 2. 구형 루프 3. POU(Point of Use)
콜로이드 실리카 Profile II Y005 CMPure CMPD 5 Starkleen Y005(캡슐)
Profile II Y005(캡슐)
증기 처리 실리카 Profile II Y005 CMPure CMPD 5 Starkleen A010(캡슐)
Profile II Y005(캡슐)
 콜로이드 산화알루미늄  Profile II Y005  CMPure CMPD 20

Starkleen A050(캡슐)
Profile II Y050(카트리지)