마이크로일렉트로닉스

반도체 제조용 가스 여과 어플리케이션 자료

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Pall 가스 필터 어셈블리 설치를 통한
초고순도 가스 전달 시스템 유지 관리
(PDF)
해당 없음
  • 일관된 순도 수준
  • 가스 전달 시스템으로 유입되는 탈기체로부터 수분과 산소 오염 물질 대량 제거
  • 진공 챔버의 펌프 정지 시간이 줄어들어
    처리 주기 단축
  • 총 소유 비용 절감
Pall ChamberKleen 디퓨져 설치를 통한
웨이퍼상의 입자 생성 방지
(PDF)
해당 없음
  • 퍼지 사이클 단축
  • 도구 및 공정 처리량 증가
  • 유동 교란 감소
  • 웨이퍼 입자 결함 감소
  • 총 소유 비용 절감

Pall 가스 필터 설치를 통한 초고순도 가스 전달 시스템의
미립자 오염 물질 제거
(PDF)

  • 직접 포집
  • 관성 충돌
  • 확산 포집
  • 다양한 크기의 입자 제거
  • 총 소유 비용 절감
기술 및 발표 논문

Pall Ultramet-L® 필터의 성능 특징

     
전자 등급 가스 필터의
권장 교체 일정
  • 폴리실리콘 플라즈마 식각
  • 확산 용해로 세척
  • 산화 공정
해당 없음 해당 없음
신중한 부품 선택을 통한
시스템 차지 면적 및 운영 비용 절감
(PDF)
  • 플라즈마 식각 공정
  • 유량을 증대하는 동시에 시스템 차지 공간에 미치는 영향을 최소화
  • 시스템 차지 공간 감소
  • 유해한 오염 물질 제거
  • 교정 횟수 감소
  • 금속 카보닐 복합체 제거
  • 유해한 수분 불순물 제거
  • 사용 수명 연장
  • 교체 횟수 감소
  • 추가 열원 필요성 제거
  • 자본 및 유지 관리 비용 절감
  • 가동 시간 증가
  • 수율 증가
  • 추가 자본, 에너지 및 유지 관리 비용의 필요성 제거
고순도 반도체 가스 필터 어셈블리용
316L 스테인리스강 선택
해당 없음
  • 미립자 오염 물질 제거
해당 없음
  • Gaskleen 및 Ultramet-L 필터 어셈블리 전체
Ultraclean 가스 분포 시스템에서
불소 고분자 및 스테인리스강 필터 사용
해당 없음
  • 미립자 오염 물질 제거
  • 아웃가싱 최소화
해당 없음
고순도 부식성 가스 분포 시스템에서
니켈 및 316L 스테인리스강 필터 어셈블리 사용
해당 없음
  • UHP 가스 시스템의 부식 내성 강화
해당 없음