반도체 제조용 가스 입자 여과

첨단 장치 제조 관련 공정 요건에 따라 모든 타입의 고순도 가스 사용이 급격히 늘어났습니다.

이러한 가스에 요구되는 고순도를 확보하고 유지하기 위해서는 벌크 및 POU(Point-of Use) 어플리케이션에 적합한 필터 선택이 필수적입니다.

필터 요건

IC 제조에 보다 고순도의 공정 가스를 사용해야 함에 따라 필터 성능 평가 시 사용되는 기준을 제고하게 되었습니다. 

다양한 필터 제품 선택 시 입자 여과율만 고려해서는 안 됩니다. 필터의 유해 불순물 아웃가싱 및 입자 방출 가능성도 고려해야 합니다.

이러한 문제는 필터 부품 및 하우징에도 적용됩니다.

Pall은 제품 품질과 관련하여 적절한 소재 선택, 청정도 수준, 하우징 표면 준비 및 특수 제조 공정의 중요성을 인식하고 있습니다.

Pall은 자사의 지식을 바탕으로 이제는 업계 표준이 된 새로운 사례를 도입할 수 있었습니다.

 

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Pall 담당자에게 주문 관련 문의

모든 Pall Gaskleen® 필터 어셈블리는 다음과 같이 처리됩니다.

  • 수분 및 산소 오염 방지를 위해 특수 이중 백으로 포장하고 고순도 질소로 정화
  • 외부를 알루미늄으로 처리한 마일라 증기 차단 백으로 보호하여 청정도 추가 보장
   
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