마이크로일렉트로닉스

디스플레이 제조용 포토리쏘그래피 여과

TFT LCD 생산업체는 밝기와 명암비가 높은 디스플레이를 생산해야 합니다.  이를 위해서는 TFT 배열 기판과 LCD 색상 필터 생산 시 반드시 리쏘그래피 공정을 사용해야 합니다.  

차세대 디스플레이의 향후 밝기 및 명암비 요건을 충족하는 디스플레이를 생산하려면 오염 제어가 필수입니다.

필수적인 픽셀 해상도를 갖춘 디스플레이를 만들려면 코팅, 노출 및 개발 공정 중의 오염 물질 제거 및 레지스트 자체 여과가 모두 중요합니다.

Pall은 코팅 및 현상 공정에서 사용되는 레지스트 및 솔벤트를 여과하는 용도로 POU(Point-of-Use) 캡슐과 필터 엘리먼트를 다양한 미디어 및 마이크로 사이즈로 제작했습니다.     

해당 캡슐 및 엘리먼트는 교체하기 쉽게 설계되어 있어 기계의 다운타임이 줄어들고 COO(소유 비용)가 낮아집니다.

 

디스플레이 개요디스플레이 - 어플리케이션
디스플레이 - 화학 물질 여과
디스플레이 - 사진석판술 여과
디스플레이 - 액정 여과
디스플레이 - 가스 여과 및 정제
디스플레이 - 초순수 여과 

또한 Pall은 평판 디스플레이 제조업체가 사용하는 각종 컬러 레지스트에서 입자를 제거하는 용도로 다양한 필터 미디어 및 등급을 보유하고 있습니다.  


디스플레이 제조용 포토리쏘그래피 여과 제품

어셈블리

Acro® 50 LCF 필터 어셈블리
Acro® 50 LCF 필터 어셈블리이 필터 어셈블리는 코팅기의 컬러 레지스트 여과용으로 설계되어 펌프와 밸브 등 시스템 부품에서 발생하는 오염을 제거합니다.


DFA 필터 어셈블리(마이크로리쏘그래피)
DFA™ 필터 어셈블리(마이크로리쏘그래피)이 필터 어셈블리는 현상액, EBR, DI 용수 여과 및 소량 배치 처리용으로 적합한 소형 캡슐 조립품입니다.


DFA™-EZ 필터 어셈블리(마이크로리쏘그래피)
DFA™-EZ 필터 어셈블리(마이크로리쏘그래피)이 소형 필터 캡슐 어셈블리는 소량 처리용으로 설계되었습니다. 포토레지스트, 다양한 슬러리 및 기타 호환 가능 액체의 POU(Point-of-Use) 여과에 적합합니다.


PhotoKleenEZD 필터 어셈블리
이 필터 어셈블리는 POU(Point-of-Use) 포토케미컬 디스펜스 어플리케이션에서 청결하고 간단하며 안전하고 빠른 필터 교체를 위해 설계되었습니다.

LCD 컬러 레지스트 코팅용 PhotoKleen EZD 필터 어셈블리
LCD 컬러 레지스트 코팅용 PhotoKleen™ EZD 필터 어셈블리폴리프로필렌 헤드 매니폴드 경계부와 스테인리스강 링 너트로 구성된 소형 필터 캡슐 어셈블리입니다. 이 구성에서는 필터 캡슐을 안전하고 빠르며 간편하게 교체할 수 있습니다.

PhotoKleen 필터 어셈블리
PhotoKleen™ 필터 어셈블리이 필터 어셈블리는 청결하고 간단하며 안전한 필터 교체를 위해 설계된 소형 캡슐 어셈블리입니다. 폴리프로필렌 부품을 사용하지 않기 때문에 현상액, 솔벤트 및 레지스트 여과 등 순도가 높아야 하는 어플리케이션에 적합합니다.

필터

PE-Kleen 필터
PE-Kleen 필터이 필터는 반도체 산업에 필요한 뛰어난 입자 잔류 특성을 갖춘 초고순도 케미컬 여과용으로 특화 설계된 것입니다.


Small Flow Emflon® 필터(마이크로리쏘그래피)
Small Flow Emflon® 필터(마이크로리쏘그래피)이 필터는 PTFE 및 폴리프로필렌과 호환되는 케미컬에 사용하는 것이 좋습니다.  


Ultipleat® P-Nylon 필터 (마이크로리쏘그래피)
Ultipleat® P-Nylon 필터(마이크로리쏘그래피)이 필터는 포토레지스트, 솔벤트, TMAH 기반 현상액 및 기타 나일론 6,6 및 HDPE(고밀도 폴리에틸렌) 등과 호환 가능한 케미컬의 벌크 여과용으로 특히 알맞습니다.