반도체 어플리케이션

  • 화학

    Pall이 개발하고 제조하는 화학 물질 여과 및 정제 제품은 수십 년간 반도체 및 관련 산업에 종사해 온 경험의 산물입니다. 자세히 알아보기
  • CMP(Chemical Mechanical Polishing)

    Pall은 공급업체 및 최종 소비자와 협력하여 CMP(화학적 기계적 폴리싱) 여과 솔루션을 제공하고 있으며 다양한 슬러리 및 어플리케이션을 처리하는 효율적이고 경제적인 제품 개발을 위해 끊임없이 노력하고 있습니다. 자세히 알아보기
  • 가스 여과 및 정제

    회로 선폭이 지속적으로 줄어드는 가운데, 고순도 가스의 필요성도 꾸준히 높아지고 있습니다.  Pall의 가스 여과 및 정제 제품 라인을 통해, 고객의 엄격한 순도 요구를 충족할 수 있습니다. 자세히 알아보기  
  • 리쏘그래피

    마이크로리쏘그래피는 반도체 산업의 핵심 기술 동인입니다. 이 산업이 지속적으로 성장할 수 있는 것은 리쏘그래피 해상도 향상의 결과입니다. 자세히 알아보기
  • 초순수

    반도체 집적 회로 제조 과정에서 초순수가 광범위하게 사용된다는 점에서, 이를 확보하고 유지하는 일은 매우 중요합니다. Learn more...
  • 폐수 처리

    CMP 작업에서 나오는 용수의 감소, 재생 및 재활용을 통해 반도체 산업의 자본 및 운영 비용을 줄이면 연간 5억 달러를 절감할 수 있을 것으로 예상됩니다. 자세히 알아보기

 

 

반도체 개요
반도체 - 어플리케이션
반도체 - 화학 물질
반도체 - CMP
반도체 - 가스 여과 및 정제
Semiconductor - Lithography
반도체 - 초순수
반도체 - 폐수 처리
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