초순수

General Filter Requirements
Achieving and maintaining ultrapure  water (UPW) is extremely important in light of its widespread presence throughout the manufacture of semiconductor integrated circuits. 디스플레이 산업의 기술은 지난 몇 년간 매우 급속히 발전하여 청정도 요건이 재정의되었으며 이는 특히 콜로이드 실리카, 입자, TOC(전유기 탄소), 박테리아, 발열원(박테리아 단편) 및 금속 이온을 대폭 제거해야 하는 필요성과 관련이 있습니다. 

필터를 전략적으로 배치한 우수 설계 UPW 시스템을 사용하면 이러한 목표를 달성할 수 있는데 그 이유는 각 핵심 영역에서 선택된 필터 타입이 최종 품질에서 상당한 차이를 만들어 내기 때문입니다. 고순도 DI(탈이온) water 시스템의 요구를 충족하려면 필터는 다음 사항을 만족해야 합니다.

  • Not contribute organic, particulate or metal ion contamination to the effluent stream
  • Not unload trapped contaminants or shed filter material
  • Be integrity testable to verify removal ratings
  • Perform identically from lot to lot
  • 압력 저하가 작아 수명이 길고 경제성이 극대화됨

DI Water Filter
효과적으로 유지 관리되는 UPW 시스템에는 신중하게 선택한 여러 필터 및 정제기가 전략적 위치에 배치되어 있습니다. 아래에 나타낸 것은 DI 용수 시스템의 구성도입니다. 필터의 위치는 일반적인 용수 시스템에서 필터가 배치되는 대표적인 위치입니다.
Ultrapure Water Introduction 

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Semiconductor-Ultrapure Water Products