반도체 제조용 초순수 여과

초순수 여과/정제
요건

반도체 통합 회로 제조 전 과정에서 초순수가 광범위하게 사용된다는 점에서 이를 확보하고 유지하는 일은 극히 중요합니다.

디스플레이 산업의 기술은 지난 몇 년간 매우 급속히 발전하여 청정도 요건이 재정의되었으며 이는 특히 콜로이드 실리카, 입자, TOC(전유기 탄소), 박테리아, 발열원(박테리아 단편) 및 금속 이온을 대폭 제거해야 하는 필요성과 관련이 있습니다. 

필터를 전략적으로 배치한 우수 설계 UPW(초순수) 시스템을 사용하면 이러한 목표를 달성할 수 있는데 그 이유는 각 핵심 영역에서 선택된 필터 타입이 최종 품질에서 상당한 차이를 만들어 내기 때문입니다.

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